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光刻機(jī)行業(yè)市場(chǎng)規(guī)模、發(fā)展機(jī)遇及競(jìng)爭(zhēng)格局分析（附報(bào)告目錄）

1、光刻機(jī)行業(yè)市場(chǎng)規(guī)模分析

光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一，廣義的光刻機(jī)包括用于生產(chǎn)芯片的光刻機(jī)、用于封裝的光刻機(jī)、用于LED制造領(lǐng)域的投影光刻機(jī)。光刻機(jī)被業(yè)界譽(yù)為集成電路產(chǎn)業(yè)皇冠上的明珠，研發(fā)的技術(shù)門(mén)檻和資金門(mén)檻非常高。目前是中國(guó)在半導(dǎo)體設(shè)備制造上z大的短板。

數(shù)據(jù)顯示，2019 年全球 IC 前道光刻機(jī)銷(xiāo)售數(shù)量為 359臺(tái)，其中主要為 I-line 光刻機(jī)、KrF 光刻機(jī)和 ArFi 光刻機(jī)；2009 年至 2019 年光刻機(jī)銷(xiāo)售數(shù)量復(fù)合增長(zhǎng)率為 9.57%。隨著 IC 制程不斷向前推進(jìn)，IC 元件將更加復(fù)雜，平均所需的曝光層數(shù)不斷增多，這將驅(qū)動(dòng)光刻機(jī)需求的增長(zhǎng)。未來(lái) EUV光刻機(jī)將主要應(yīng)用在關(guān)鍵層曝光，銷(xiāo)售量占比將有望提升；ArFi 光刻機(jī)將主要應(yīng)用在次關(guān)鍵層曝光，KrF 和 ArF 光刻機(jī)則將主要應(yīng)用在非關(guān)鍵層曝光，銷(xiāo)售量將保持相對(duì)穩(wěn)定；而 I-line 光刻機(jī)在存儲(chǔ)芯片的非關(guān)鍵層曝光中還有廣泛的應(yīng)用，但在 28nm 以下節(jié)點(diǎn)的邏輯芯片非關(guān)鍵層曝光中的應(yīng)用則將逐漸減少。

相關(guān)報(bào)告：北京普華有策信息咨詢(xún)有限公司《2021-2027年光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)全景深度調(diào)研及投資策略研究分析報(bào)告》

2015-2019年全球 IC 前道光刻機(jī)銷(xiāo)量（分產(chǎn)品類(lèi)型）

資料來(lái)源：普華有策

統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)顯示，2019 年全球 IC 前道光刻機(jī)市場(chǎng)規(guī)模為135.20 億美元，2009 年至 2019 年復(fù)合增長(zhǎng)率為 19.19%。其中，2019 年 EUV光刻機(jī)市場(chǎng)規(guī)模為 31.00 億美元，同比增長(zhǎng) 47.62%，占整體市場(chǎng)規(guī)模的比例達(dá)22.93%。隨著 EUV 光刻機(jī)的銷(xiāo)量快速提升，其占整體市場(chǎng)規(guī)模的比例將有望進(jìn)一步提高。

2、國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備的需求帶動(dòng)國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)的發(fā)展機(jī)遇

我國(guó)光刻機(jī)市場(chǎng)的發(fā)展主要受益于我國(guó)晶圓產(chǎn)能的快速擴(kuò)張以及設(shè)備國(guó)產(chǎn)化進(jìn)程的加速推進(jìn)。近年來(lái)，隨著國(guó)家加大半導(dǎo)體領(lǐng)域的投入，我國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備采購(gòu)額逐年增加。2018 年中國(guó)大陸半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)規(guī)模達(dá)131.10 億美元，同比增長(zhǎng) 59.30%，高于全球半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)規(guī)模同比增長(zhǎng)率13.97%，中國(guó)大陸成為半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)規(guī)模增長(zhǎng)最快的地區(qū)。此外，隨著中國(guó)大陸晶圓產(chǎn)能的建設(shè)和擴(kuò)產(chǎn)，中國(guó)將成為全球晶圓產(chǎn)能增長(zhǎng)的重心，這將帶動(dòng)國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備的需求增長(zhǎng)，為國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)的發(fā)展提供了良好的機(jī)遇。

3、光刻機(jī)行業(yè)競(jìng)爭(zhēng)格局分析

光刻機(jī)的主要生產(chǎn)商包括荷蘭 ASML、日本尼康、日本佳能和上海微電子。其中，ASML 獨(dú)占了 70%以上的市場(chǎng)份額。我國(guó)光刻機(jī)研發(fā)起步較慢，2003 年國(guó)務(wù)院?jiǎn)?dòng)中長(zhǎng)期科技發(fā)展規(guī)劃的制定工作，并于 2006 年完成發(fā)布《國(guó)家中長(zhǎng)期科學(xué)和技術(shù)發(fā)展規(guī)劃綱要（2006-2020 年）》，確定了極大規(guī)模集成電路制造技術(shù)及成套工藝作為重大專(zhuān)項(xiàng)，即所謂―02 專(zhuān)項(xiàng)‖，推動(dòng)了包括光刻機(jī)在內(nèi)的集成電路設(shè)備行業(yè)的快速發(fā)展。目前，我國(guó)的上海微電子研制的 90nm 高端步進(jìn)掃描投影光刻機(jī)已完成整機(jī)集成測(cè)試，并在客戶(hù)生產(chǎn)線上進(jìn)行了工藝試驗(yàn)，是我國(guó) IC前道光刻機(jī)龍頭企業(yè)。

報(bào)告目錄：

第1章 光刻機(jī)行業(yè)界定及發(fā)展環(huán)境分析

1.1 光刻機(jī)行業(yè)界定及統(tǒng)計(jì)說(shuō)明

1.1.1 光刻機(jī)在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈中的地位

1.1.2 光刻機(jī)的界定與工作原理

1.1.3 光刻機(jī)的分類(lèi)

1.1.4 本行業(yè)關(guān)聯(lián)國(guó)民經(jīng)濟(jì)行業(yè)分類(lèi)

1.1.5 本報(bào)告行業(yè)研究范圍的界定說(shuō)明

1.1.6 本報(bào)告的數(shù)據(jù)來(lái)源及統(tǒng)計(jì)標(biāo)準(zhǔn)說(shuō)明

1.2 中國(guó)光刻機(jī)行業(yè)政策環(huán)境

1.2.1 行業(yè)監(jiān)管體系及機(jī)構(gòu)介紹

1.2.2 行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)體系建設(shè)現(xiàn)狀

（1）標(biāo)準(zhǔn)體系建設(shè)

（2）現(xiàn)行標(biāo)準(zhǔn)匯總

（3）即將實(shí)施標(biāo)準(zhǔn)

（4）重點(diǎn)標(biāo)準(zhǔn)解讀

1.2.3 行業(yè)發(fā)展相關(guān)政策規(guī)劃匯總及解讀

（1）行業(yè)發(fā)展相關(guān)政策匯總

（2）行業(yè)發(fā)展相關(guān)規(guī)劃匯總

1.2.4 行業(yè)重點(diǎn)政策規(guī)劃解讀

1.2.5 政策環(huán)境對(duì)行業(yè)發(fā)展的影響分析

1.3 中國(guó)光刻機(jī)行業(yè)經(jīng)濟(jì)環(huán)境

1.3.1 宏觀經(jīng)濟(jì)發(fā)展現(xiàn)狀

1.3.2 宏觀經(jīng)濟(jì)發(fā)展展望

1.3.3 行業(yè)發(fā)展與宏觀經(jīng)濟(jì)相關(guān)性分析

1.4 中國(guó)光刻機(jī)行業(yè)社會(huì)環(huán)境

1.4.1 中國(guó)人口規(guī)模及結(jié)構(gòu)

1.4.2 中國(guó)城鎮(zhèn)化水平變化

1.4.3 中國(guó)居民收入水平及結(jié)構(gòu)

1.4.4 中國(guó)居民消費(fèi)支出水平及結(jié)構(gòu)演變

1.4.5 中國(guó)消費(fèi)新趨勢(shì)

1.4.6 社會(huì)環(huán)境變化對(duì)行業(yè)發(fā)展的影響分析

1.5 中國(guó)光刻機(jī)行業(yè)技術(shù)環(huán)境

1.5.1 半導(dǎo)體光刻工藝概述

1.5.2 半導(dǎo)體光刻技術(shù)發(fā)展分析

1.5.3 光刻機(jī)技術(shù)創(chuàng)新動(dòng)態(tài)

1.5.4 光刻機(jī)專(zhuān)利申請(qǐng)及公開(kāi)情況

1.5.5 光刻機(jī)技術(shù)創(chuàng)新趨勢(shì)

1.5.6 技術(shù)環(huán)境對(duì)行業(yè)發(fā)展的影響分析

第2章 全球光刻機(jī)行業(yè)發(fā)展趨勢(shì)及前景預(yù)測(cè)

2.1 全球光刻機(jī)行業(yè)發(fā)展歷程及發(fā)展環(huán)境分析

2.1.1 全球光刻機(jī)行業(yè)發(fā)展歷程

2.1.2 全球光刻機(jī)行業(yè)發(fā)展環(huán)境

2.2 全球光刻機(jī)行業(yè)供需狀況及市場(chǎng)規(guī)模測(cè)算

2.2.1 全球光刻機(jī)行業(yè)供需狀況

2.2.2 全球光刻機(jī)細(xì)分產(chǎn)品供需狀況

2.2.3 全球光刻機(jī)行業(yè)市場(chǎng)規(guī)模測(cè)算

2.3.2 重點(diǎn)區(qū)域光刻機(jī)行業(yè)發(fā)展分析

（1）荷蘭

（2）美國(guó)

（3）日本

2.4 全球光刻機(jī)行業(yè)市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)格局及代表性企業(yè)案例

2.4.1 全球光刻機(jī)行業(yè)市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)狀況

2.4.2 全球光刻機(jī)企業(yè)兼并重組狀況

2.4.3 全球光刻機(jī)行業(yè)代表性企業(yè)布局案例

（1）A

（2）B

（3）C

2.5 全球光刻機(jī)行業(yè)發(fā)展趨勢(shì)及市場(chǎng)前景預(yù)測(cè)

2.5.1 全球光刻機(jī)行業(yè)發(fā)展趨勢(shì)預(yù)判

2.5.2 全球光刻機(jī)行業(yè)市場(chǎng)前景預(yù)測(cè)

第3章 中國(guó)光刻機(jī)行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀與市場(chǎng)痛點(diǎn)分析

3.1 中國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀

3.1.1 半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)發(fā)展歷程分析

3.1.2 半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)市場(chǎng)規(guī)模分析

3.1.3 中國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)規(guī)模占全球比重

3.2 中國(guó)光刻機(jī)行業(yè)發(fā)展歷程及市場(chǎng)特征

3.2.1 中國(guó)光刻機(jī)行業(yè)發(fā)展歷程

3.2.2 中國(guó)光刻機(jī)市場(chǎng)發(fā)展特征

3.3 中國(guó)光刻機(jī)行業(yè)進(jìn)出口狀況分析

3.4 中國(guó)光刻機(jī)行業(yè)市場(chǎng)供需狀況

3.4.1 中國(guó)光刻機(jī)行業(yè)參與者類(lèi)型及規(guī)模

3.4.2 中國(guó)光刻機(jī)行業(yè)參與者進(jìn)場(chǎng)方式

3.4.3 中國(guó)光刻機(jī)行業(yè)市場(chǎng)供給分析

3.4.4 中國(guó)光刻機(jī)行業(yè)市場(chǎng)需求分析

3.4.5 中國(guó)光刻機(jī)行業(yè)價(jià)格水平及走勢(shì)

3.5 中國(guó)光刻機(jī)行業(yè)市場(chǎng)規(guī)模測(cè)算

3.6 中國(guó)光刻機(jī)行業(yè)市場(chǎng)痛點(diǎn)分析

第4章 中國(guó)光刻機(jī)行業(yè)競(jìng)爭(zhēng)狀態(tài)及市場(chǎng)格局分析

4.1 中國(guó)光刻機(jī)行業(yè)市場(chǎng)進(jìn)入與退出壁壘

4.2 中國(guó)光刻機(jī)行業(yè)投融資、兼并與重組狀況

4.2.1 中國(guó)光刻機(jī)行業(yè)投融資發(fā)展?fàn)顩r

（1）行業(yè)資金來(lái)源

（2）投融資主體

（5）投融資信息匯總

（6）投融資趨勢(shì)預(yù)測(cè)

4.2.2 中國(guó)光刻機(jī)行業(yè)兼并與重組狀況

（1）兼并與重組事件匯總

（2）兼并與重組動(dòng)因分析

（3）兼并與重組案例分析

（4）兼并與重組趨勢(shì)預(yù)判

4.3 中國(guó)光刻機(jī)行業(yè)市場(chǎng)格局及集中度分析

4.3.1 中國(guó)光刻機(jī)行業(yè)市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)格局

4.3.2 中國(guó)光刻機(jī)行業(yè)國(guó)際競(jìng)爭(zhēng)力分析

4.3.3 中國(guó)光刻機(jī)行業(yè)國(guó)產(chǎn)化發(fā)展現(xiàn)狀

4.3.4 中國(guó)光刻機(jī)行業(yè)市場(chǎng)集中度分析

4.4 中國(guó)光刻機(jī)行業(yè)波特五力模型分析

4.4.1 上游議價(jià)能力分析

4.4.2 下游議價(jià)能力分析

4.4.3 行業(yè)內(nèi)企業(yè)競(jìng)爭(zhēng)分析

4.4.4 替代品威脅分析

4.4.5 潛在進(jìn)入者分析

4.4.6 行業(yè)市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)總結(jié)

4.5 中國(guó)光刻機(jī)行業(yè)產(chǎn)業(yè)集群發(fā)展?fàn)顩r及重點(diǎn)區(qū)域市場(chǎng)分析

4.5.1 中國(guó)光刻機(jī)行業(yè)產(chǎn)業(yè)集群發(fā)展?fàn)顩r

4.5.2 中國(guó)光刻機(jī)行業(yè)產(chǎn)業(yè)重點(diǎn)區(qū)域市場(chǎng)

第5章 中國(guó)光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈?zhǔn)崂砑叭吧疃冉馕?/span>

5.1 光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈?zhǔn)崂砑俺杀窘Y(jié)構(gòu)分析

5.1.1 光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈結(jié)構(gòu)及生態(tài)體系

5.1.2 光刻機(jī)的組成結(jié)構(gòu)

5.1.3 光刻機(jī)成本結(jié)構(gòu)

5.2 中國(guó)光刻機(jī)行業(yè)上游供應(yīng)市場(chǎng)解析

5.2.1 光刻機(jī)核心組件類(lèi)型及主要供應(yīng)商

5.2.2 光刻機(jī)光源系統(tǒng)

5.2.3 光刻機(jī)曝光系統(tǒng)

5.2.4 光刻機(jī)浸沒(méi)系統(tǒng)

5.2.5 光刻機(jī)物鏡系統(tǒng)

5.2.6 光刻機(jī)光柵系統(tǒng)

5.2.7 光刻機(jī)核心組件對(duì)光刻機(jī)行業(yè)發(fā)展的影響分析

5.3 光刻機(jī)配套設(shè)施供應(yīng)市場(chǎng)分析

5.3.1 光刻機(jī)配套設(shè)施類(lèi)型及主要供應(yīng)商

5.3.2 光刻膠

5.3.3 光刻氣體

5.3.4 光掩膜版

5.3.5 缺陷檢測(cè)

5.3.6 涂膠顯影

5.3.7 光刻機(jī)配套設(shè)施對(duì)光刻機(jī)行業(yè)發(fā)展的影響分析

5.4 光刻機(jī)行業(yè)設(shè)計(jì)市場(chǎng)

5.5 光刻機(jī)行業(yè)中游細(xì)分產(chǎn)品市場(chǎng)分析

5.5.1 光刻機(jī)行業(yè)中游細(xì)分產(chǎn)品類(lèi)型及適用場(chǎng)景

5.5.2 光刻機(jī)行業(yè)重點(diǎn)產(chǎn)品市場(chǎng)解析

5.6 中國(guó)光刻機(jī)行業(yè)下游應(yīng)用場(chǎng)景需求解析

第6章 中國(guó)光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈代表性企業(yè)發(fā)展布局案例研究

6.1 中國(guó)光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈代表性企業(yè)發(fā)展布局對(duì)比

6.2 中國(guó)光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈代表性企業(yè)發(fā)展布局案例

6.2.2 A公司

（1）企業(yè)發(fā)展歷程及基本信息

（2）企業(yè)發(fā)展?fàn)顩r

（3）企業(yè)光刻機(jī)及關(guān)聯(lián)業(yè)務(wù)布局狀況

（4）企業(yè)光刻機(jī)及關(guān)聯(lián)業(yè)務(wù)布局的優(yōu)劣勢(shì)分析

6.2.3 B公司

（1）企業(yè)發(fā)展歷程及基本信息

（2）企業(yè)發(fā)展?fàn)顩r

（3）企業(yè)光刻機(jī)及關(guān)聯(lián)業(yè)務(wù)布局狀況

（4）企業(yè)光刻機(jī)及關(guān)聯(lián)業(yè)務(wù)布局的優(yōu)劣勢(shì)分析

6.2.4 C公司

（1）企業(yè)發(fā)展歷程及基本信息

（2）企業(yè)發(fā)展?fàn)顩r

（3）企業(yè)光刻機(jī)及關(guān)聯(lián)業(yè)務(wù)布局狀況

（4）企業(yè)光刻機(jī)及關(guān)聯(lián)業(yè)務(wù)布局的優(yōu)劣勢(shì)分析

6.2.5 D公司

（1）企業(yè)發(fā)展歷程及基本信息

（2）企業(yè)發(fā)展?fàn)顩r

（3）企業(yè)光刻機(jī)及關(guān)聯(lián)業(yè)務(wù)布局狀況

（4）企業(yè)光刻機(jī)及關(guān)聯(lián)業(yè)務(wù)布局的優(yōu)劣勢(shì)分析

6.2.6 E公司

（1）企業(yè)發(fā)展歷程及基本信息

（2）企業(yè)發(fā)展?fàn)顩r

（3）企業(yè)光刻機(jī)及關(guān)聯(lián)業(yè)務(wù)布局狀況

（4）企業(yè)光刻機(jī)及關(guān)聯(lián)業(yè)務(wù)布局的優(yōu)劣勢(shì)分析

第7章 中國(guó)光刻機(jī)行業(yè)市場(chǎng)前瞻及投資策略建議

7.1 中國(guó)光刻機(jī)行業(yè)發(fā)展?jié)摿υu(píng)估

7.1.1 行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀總結(jié)

7.1.2 行業(yè)影響因素總結(jié)

7.1.3 行業(yè)發(fā)展?jié)摿υu(píng)估

（1）行業(yè)生命發(fā)展周期

（2）行業(yè)發(fā)展?jié)摿υu(píng)估

7.4 中國(guó)光刻機(jī)行業(yè)投資風(fēng)險(xiǎn)預(yù)警與防范策略

7.4.1 中國(guó)光刻機(jī)行業(yè)投資風(fēng)險(xiǎn)預(yù)警

7.4.2 中國(guó)光刻機(jī)投資風(fēng)險(xiǎn)防范策略

7.5 中國(guó)光刻機(jī)行業(yè)投資價(jià)值評(píng)估

7.6 中國(guó)光刻機(jī)行業(yè)投資機(jī)會(huì)分析

7.7 中國(guó)光刻機(jī)行業(yè)投資策略與建議

7.8 中國(guó)光刻機(jī)行業(yè)可持續(xù)發(fā)展建議